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1、
利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.
互联网摘选
2、
3、
本设备由以下系统组成：注入系统，有溅射离子源及不对称三电极加速管，能量50keV，流强4mA（N~+）；
互联网摘选
4、
5、
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